在大气条件下使用光学发射光谱跟踪热电应用中等离子喷涂 TiO2-x 原料的飞行还原情况

热喷涂沉积（特别是大气等离子喷涂，APS）是一种成熟的表面涂层技术，具有广泛的应用范围（如绝缘涂层、摩擦涂层、防腐蚀涂层等）。此外，人们还在不断推动将 APS 工艺引入新兴领域。APS 的一个利基应用是具有增强热电性能（与块状材料相比）的亚计量 TiO2-x 涂层。由于使用氢气作为等离子气体，APS 工艺在这种情况下具有独特的能力，可以在加工过程中减少 TiO2-x 材料。然而，到目前为止，还没有一种可靠或自洽的方法来评估（或通过参数优化来控制）加工过程中熔融氧化物颗粒的飞行还原。本研究表明，即使在大气条件下，使用光学发射光谱 (OES) 也可以识别与 APS 期间 TiO2 飞行还原相关的特征发射峰。利用该光学发射光谱数据，将显示输入喷雾处理参数及其对涂层微观结构和材料飞行还原程度的影响。结果表明，在平衡条件下，等离子体中只需要极少量的氢气就能实现 TiO2 还原。

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最初发表于《Scientific Reports》（第 14 卷，文章编号 554，2024 年）
作者：Georg Mauer、Edward J. Gildersleeve V。